產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

超純水制備中，TOC(總有機(jī)碳)的降解重要，采用UV-185nm低壓紫外技術(shù)，并結(jié)合UV-254nm紫外線(xiàn)殺.菌器，能夠通過(guò)高劑量的UV-185nm紫外光催化，在水中產(chǎn)生羥基自由基，對(duì)水中的有機(jī)物進(jìn)行氧化降解，以降水中的TOC含量。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

● 響應(yīng)時(shí)間少于5min，可達(dá)到氧化;

● 樣品的成分和氧化過(guò)程產(chǎn)生的副產(chǎn)品不會(huì)造成干擾;

● 使用可靠的NDIR技術(shù)，保證在低濃度的情況下測(cè)量的準(zhǔn)確度;

● 先進(jìn)的自診斷功能，自清洗系統(tǒng)。

● 檢出限為5μg/L,專(zhuān)為凝結(jié)水回用設(shè)計(jì)。

工作原理：

TOC降解器中裝有可產(chǎn)生185nm波長(zhǎng)的紫外燈管，當(dāng)純水用185nm紫外光直接照射時(shí)，水中TOC與光子直接碰撞的幾率很低，靠水中TOC雜質(zhì)直接吸收185nm紫外光光子能量再分解并形成C02逸出是很困難的，所以可以認(rèn)為185nm紫外光降解水中TOC時(shí)185nm紫外光先與水作用，引起水的均裂反應(yīng)， 因而185nm紫外光照射水時(shí)，在185nm紫外光所能照射的范圍內(nèi)可以產(chǎn)生中間體HO-,H·和eaq(水合電子)，這些活性中間體再與水中有機(jī)物發(fā)生親電、親核或電子轉(zhuǎn)移反應(yīng)，引起水中有機(jī)物的降解和礦化，并降TOC濃度。

為什么會(huì)使用185nm波長(zhǎng)：

目前超大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)和研究水平的需要，為使TOC的含量小于15μg/L或小于3μg/L，首先在高純水設(shè)備中用185nm紫外線(xiàn)照射，使水中TOC降到小于3μg/L，解決了兆位電路及大直徑硅片用高純水的關(guān)鍵技術(shù)難題。若不用185nm紫外線(xiàn)照射，目前高純水中TOC較好的只能做到20～50μg/L。

185nm紫外線(xiàn)是一種波長(zhǎng)較短、能量較高的超紫外線(xiàn)，其能量相當(dāng)于6.7eV，而一般用于高純水中的為254nm波長(zhǎng)的紫外線(xiàn)，其能量相當(dāng)于4.88eV，對(duì)于這兩種紫外線(xiàn)去除有機(jī)物，下圖列出某些有機(jī)物化學(xué)鍵的鍵能及相應(yīng)的波長(zhǎng)。

化學(xué)鍵的鍵能表：

根據(jù)上圖所列各種化學(xué)鍵，若用185nm紫外線(xiàn)，除C≡C，C=O鍵外，其余化學(xué)鍵的鍵能均小于6.7eV，均能被破壞。若用254nm紫外線(xiàn)，其鍵能為4.88eV，那么C=C、C≡C、C-F、C=O、C=N、C=S、N-O鍵的鍵能均大于4.88eV，都不能被破壞，而O-H、Si-O鍵的鍵能與254nm紫外線(xiàn)接近，也不易被破壞，因此許多有機(jī)物在185nm紫外線(xiàn)下被破壞，而在254nm波長(zhǎng)的紫外線(xiàn)下不能被破壞，這就是185nm紫外線(xiàn)更能有效降水中的TOC的道理。利用這一鍵能理論，以185nm紫外線(xiàn)照射高純水應(yīng)降TOC，使兆位電路用水TOC下降到小于3μg/L，并成功地用于ULSI和直徑200mm硅片及硬盤(pán)磁頭生產(chǎn)中。

主要功能及特征：

a、用于超純水制配中TOC降解。

b、紫外線(xiàn)TOC降解設(shè)備必須安裝混床，以保證不增加新的TOC及恢復(fù)水中的電解氯。

c、TOC降解的幅度取決于水中TOC的構(gòu)成情況及紫外線(xiàn)TOC降解設(shè)備劑量設(shè)計(jì)。紫外線(xiàn)TOC降解設(shè)備能夠使TOC降到10ppb。

適用范圍：TOC分析儀適用于化工、石化和電廠凝結(jié)水回用的TOC分析

案例現(xiàn)場(chǎng)：

應(yīng)用：EDI生產(chǎn)線(xiàn)

客戶(hù)：通用電氣水處理技術(shù)有限公司

優(yōu)勢(shì)：脫除TOC效率大于60%，性能穩(wěn)定可靠

概述：處理水量15T/H

項(xiàng)目概況：通用電氣公司(GE)是多元化服務(wù)性公司，500強(qiáng)之中位居前列。

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